Intel опубликовала информацию о новой микроархитектуре, оптимизированной с помощью передового 14-нанометрового производственного процесса.
Новые технологии обеспечат высокую производительность и энергоэффективность для использования в различных областях, начиная с инфраструктур облачных вычислений и концепции «Интернета вещей» и заканчивая персональными и мобильными вычислениями.
Intel представила информацию о микроархитектуре процессора Intel Core M, который станет изготавливаться в соответствии с технологическими нормами 14-нанометрового производственного процесса.
Объединение микроархитектуры и техпроцесса позволит создавать компьютеры с новыми форм-факторами, реализовать новые функциональные возможности и спроектировать более тонкие системы с низким уровнем тепловыделения и шума.
Intel и проектировщики микросхем добились более чем двукратного снижения тепловой мощности по сравнению с предыдущим поколением процессоров при сохранении высокой производительности и увеличении времени работы в автономном режиме.
Новая микроархитектура оптимизирована для использования преимуществ новых возможностей 14-нанометрового производственного процесса.
Intel стала первой компанией, которая начала массовое производство продукции на базе 14-нанометровой технологии. Корпорация использует второе поколение транзисторов Tri-Gate (FinFET), которые обеспечивают ведущие показатели производительности, энергопотребления, плотности размещения и стоимости на один транзистор.
14-нанометровая технология Intel будет использоваться для производства широкого спектра высокопроизводительных решений и процессоров с пониженным тепловыделением, включая серверы, ПК и решения для «Интернета вещей».
Первые системы на базе Intel Core M поступят в продажу в сезон праздничных покупок, а массовые продажи начнутся в первой половине 2015 г.
В ближайшие месяцы будет представлена другая продукция на базе микроархитектуры Broadwell и 14-нанометрового производственного процесса.
«В 14-нанометровой технологии Intel используется второе поколение транзисторов Tri-Gate для того, чтобы обеспечить ведущие показатели производительности, энергоэффективности, плотности размещения и стоимости на один транзистор, – сказал Марк Бор (Mark Bohr), старший заслуженный исследователь Intel, подразделение Technology and Manufacturing Group, и руководитель подразделения Process Architecture and Integration. – Инвестиции Intel и приверженность закону Мура лежат в основе того, что наши специалисты смогли добиться с помощью нового производственной технологии».
The post Подробности о новой микроархитектуре Intel и 14-нанометровом техпроцессе appeared first on Root Nation.
Источник:
Root Nation